菲希尔CMS2 STEP电位差库仑仪

特性:
    吸引人的设计，大的液晶显示器和清晰安排的键盘。
    操作简单，菜单指引的操作提示。
    电解区域直径从0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
    大约100个预先定义好的应用程式适用于大多数的金属镀层，包括测量线材。

 
  测量印刷线路板上剩余纯锡的厚度 
下面的公式适用于通过库仑法电解腐蚀确定镀层厚度：  
 
测量槽------可比作微型电解缸------被用来剥离镀层。 测量 面积由装在测量槽上的垫圈尺寸来决定。对不同的金属 采用不同配方的电解液。通过载入电流开始电解过程。 电解过程由 COULSCOPE 仪器的电子部分控制， 用一 个泵搅拌电解液来使电解区域电解液平稳腐蚀，保证电 解液*利用。 根据测量区域的大小，各种直径的垫圈 可供选择。 

 
菲希尔CMS2 STEP电位差库仑仪

校准 校准时会产生一个修正系数 。这是由于测量槽密封垫子的制造公差、镀层密度的变化、合金成分的变化，需要该修正系数。
 
 作为测量镀层厚度zui简单的方法之一，库仑法可以用于各种镀层组合。 尤其对于多镀层结构， 当允许破坏性测量时，它提供了一个比X射线更经济的替代方法。 应用 强大并且用户友好的COULOSCOPE CMS2适用于电镀行业的生产监控和成品的质量检验。
 
 很多常见的单、双镀层例如铁镀锌或者铜镀镍镀锡都可以用CMS2简单快速地测量。这个方法为任何金属镀层提供了的测量。在厚度范围 0.05 - 50 μm内， 很多材料不需要预设定；基材组成和几何形状对于测量都是无关紧要的。
 
 zui常见的应用之一就是测量线路板上剩余的纯锡，以确保可焊性。多镀层例如 Cr/ Ni/Cu在铁或者塑料（ABS）基材上，经常被用于高品质的浴室用品，也可以用这个方法进行测量。
 
 测量原理 这个系列仪器根据DIN EN ISO 2177标准的库仑法。 金属或非金属基材上的金属镀层，通过在控制电流条件下电解腐蚀--------实际上就是电镀的反过程。所载入的电流与要剥离的镀层厚度是成正比的，假如电流和剥离面积保持不变，镀层厚度与电解时间就是成正比的关系。
 
 测量槽------可比作微型电解缸------被用来剥离镀层。 测量面积由装在测量槽上的垫圈尺寸来决定。对不同的金属采用不同配方的电解液。通过载入电流开始电解过程。 电解过程由COULSCOPE仪器的电子部分控制， 用一个泵搅拌电解液来使电解区域电解液平稳腐蚀，保证电解液*利用。 根据测量区域的大小，各种直径的垫圈 可供选择。
 
 STEP Test是在允许腐蚀的情况下用来同时测量电位差和多层镍的镀层厚度，该方法是这个应用领域的标准。 应用
 多层镍镀层的品质控制需要能在电镀完成后立刻检查厚度和电位差的仪器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是为这个目的而设计的，它操作简单，参比电极使用起来也不复杂，非常适合电镀工厂苛刻环境下的这种应用
 
 电镀镍层用作电解保护和提高机器表面属性，如硬度等。 特别是汽车工业中，电镀镍部件在防腐蚀方面要满足很高的要求。单一镍层无法满足该要求。因此，目前正在开发非常复杂的镀层系统，其中包含两层、三层甚至四层镀镍层，还有铬或铜镀层。
 
 测量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同时测量镀层厚度和化学电位差）的简写，是已经标准化很久的测量方法。它可以同时测量各镀层厚度和多层镍系统中两层之间的电化学电位差。 厚度测量时用库仑法来测量，电位差通过外面镀一层AgCl的银参比电极来测量。电压曲线可以显示在屏幕上，镀层厚度和电位差可以在图上读出。 为了获得可以比较的稳定电位差测量结果，参比电极到工件的距离必须始终保持不变。这个问题通过特殊的测量槽得到解决。
 
 银参比电极被设计成一个圆锥形的环状电极，并作为测量槽底部的外壳与测量槽盖连接。测量槽的设计保证了参比电极与工件之间的距离始终不变。

COULOSCOPE CMS STEP 双层镍镀层测量版本
Couloscope CMS2 STEP 电解测厚仪
4种不同类型的测量台适合于测量各种种类的被测物体。

Couloscope CMS2 STEP 库仑测电位差测厚仪

测量原理 

这个系列仪器根据 DIN EN ISO 2177 标准的库仑法。 金属或非金属基材上的金属镀层，通过在控制电流条件 下电解腐蚀--------实际上就是电镀的反过程。所载入的电 流与要剥离的镀层厚度是成正比的，假如电流和剥离面 积保持不变，镀层厚度与电解时间就是成正比的关系。 

作为测量镀层厚度zui简单的方法之一，库仑法可以用于 各种镀层组合。 尤其对于多镀层结构， 当允许破坏性测 量时，它提供了一个比 X 射线更经济的替代方法。 

很多常见的单、双镀层例如铁镀锌或者铜镀镍镀锡都可 以用 CMS2 简单快速地测量。这个方法为任何金属镀层 提供了的测量。在厚度范围 0.05 - 50 μm 内， 很多 材料不需要预设定；基材组成和几何形状对于测量都 是无关紧要的。 
 
zui常见的应用之一就是测量线路板上剩余的纯锡，以确 保可焊性。多镀层例如 Cr/ Ni/Cu 在铁或者塑料（ABS） 基材上，经常被用于高品质的浴室用品，也可以用这个 方法进行测量

COULOSCOPE CMS基本配置：

仪器：            Couloscope CMS
测量台：          V24、V26、V18 等
电解液：          F1 ～ F22

COULOSCOPE CMS特征：
标准：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504

模拟输出： 0 ～ -18V
输入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作温度： 10 ℃ ～ 40 ℃
仪器重量： 6 kg 
电源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D  mm